河南
快科技6月8日消息，針對外界稱臺積電因保守不愿投資下一代光刻設備的傳言，臺積電董事長魏哲家近日在股東大會上親自辟謠，表示有買High-NA EUV光刻機，且正努力研發，但基于成本考量，現階段暫不投入量產。
這臺ASML研發的最新High-NA EUV光刻機，每臺單價高達3.8億至4億美元，是當前主流EUV設備的兩倍多。魏哲家坦言，設備太貴是暫不量產的主因。
臺積電的策略是先用好手里現有的EUV設備。魏哲家強調，現有光刻機搭配多重圖案化技術，仍足以支撐先進制程的微縮需求，臺積電有底氣等High-NA EUV的經濟賬算得更劃算時再出手。
臺積電早在2024年9月就接收了首臺High-NA EUV光刻機，并安置在研發中心用于開發下一代工藝的基礎光刻技術。魏哲家認為，提前啟動研發準備，才能確保未來投產時達到可靠良率與產出效率。
不過他坦言，要把這臺4億美元的設備真正用起來，還需再等等。英特爾等競爭者早已將High-NA EUV提上量產日程，而臺積電選擇先研發、后投產更穩妥的路線，符合其一貫的成本紀律。
魏哲家預計，High-NA EUV將在真正需要單次曝光實現更細微線寬且晶圓成本開始具備競爭力的時間點，自然進入生產體系。
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